Intel, ASML'nin yeni nesil yüksek açıklıklı (High NA) aşırı ultraviyole (EUV) makinelerini amiral gemisi Panther Lake dizüstü bilgisayar çiplerinin bir kısmını üretmek için kullanmaya başladı. ASML'nin duyurusuna göre bu adım, çip üreticisinin makineyi daha verimli kullanmayı öğrenmesine yardımcı olacak.
ASML'nin açıklamasına göre, 2024'te başlayan denemelerin ardından Intel, mikroçipler üzerine devre desenleri basan bu yeni nesil makineleri Panther Lake işlemcilerinin bir kısmını üretmek için kullanmaya başladı.
Sektörde, High NA makinelerinin ekonomik olarak ne zaman kullanılmaya başlanması gerektiği tartışılıyor. Çip üreticilerinin, çipleri oluşturan atom boyutundaki özellikleri küçültmeye devam ettikçe gelecekte bu araçlara ihtiyaç duyması bekleniyor.
High NA ekipmanının maliyeti yaklaşık 400 milyon dolar, yani standart EUV makinesinin iki katı. Ayrıca bu aracı üretim süreçlerine dahil etmek teknik olarak da oldukça zorlu.
Intel, High NA aracını çipin belirli katmanları için kullanıyor. Bu sayede hem Intel hem de ASML veri toplayıp ekipmanı optimize edebilecek.
Intel, bu duyuruyla ilgili yorum yapmayı reddetti.
Şirket, Panther Lake çiplerini üretmek için 18A üretim sürecini kullanıyor ve halihazırda ASML'nin standart EUV litografi makinelerini de kullanıyor. Litografi, bir çip üzerindeki devreleri oluşturan karmaşık desenleri çizmek için ışık kullanma işlemidir.
Intel, ilk High NA aracını 2024 yılında Oregon, Hillsboro'daki araştırma ve geliştirme tesisine teslim almıştı. Şirket yeni üretim tekniklerini ve teknolojilerini bu tesiste geliştiriyor.
